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ASML最新EUV光刻機:27億元,15噸重,250人要安裝180天
2024/02/12

眾所周知,目前全球僅ASML一家能夠生產EUV光刻機。

目前ASML對外出貨的光刻機,其實均是數值孔徑NA=0.33的光刻機,這種稱之為低數值孔徑的光刻機,一般用于3nm-7nm芯片的光刻。

而當芯片進入到3nm之下,也就是2nm、1.4nm、1nm芯片時,需要用到高數值孔徑的光刻機,也就是NA=0.55的光刻機,型號應該是 EXE:5200。

前段時間ASML終于將全球首台高數值孔徑的光刻機 EXE:5200,交付給了英特爾。

這台光刻機有多恐怖?首先是售價高達3.5億歐元(約合27億元人民幣)。同時其大小約等于一輛雙層巴士,重量高達15噸,也就是150000KG。

而這樣的光刻機,是無法安裝完全后,再運輸的,運輸時以會拆開,以組件的方式運送到客戶單位,然后再組裝。

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運送的時候,需要用到250個貨箱,而安裝的時候,需要用到250名工程師,然后需要6個月的時間,才能全部組裝完成,并聯調到位。

所以,雖然ASML向英特爾交付了全球首台高數值孔徑的EUV光刻機,但實際上,只是運送到英特爾,接下來這台光刻機正式啟用運轉,至少得半年之后。

而按照英特爾的計劃,自己的INTEL 2工藝,也就是2nm芯片,得到2025年才能制造出來,所以這台光刻機的實際運轉日期,也會到2025年去了。

之前ASML的總裁稱,當數值孔徑達到0.55之后,暫時可能就會告一段落了,甚至是最后一代EUV光刻機都有可能,ASML表示在現有技術條件之下,他們無法再提升數值孔徑了。

目前EUV光刻機提升分辨率,有三個方向,一是降低光源波長,但13.5nm的極紫外線已經是極限,無法再降你了。二是提升數值孔徑,但這一步也卡住了,ASML表示無法提升了,0.55是極限了。

還有就是提升光刻工藝因子,但目前的技術,也接近物理極限,無法提升了。

短時間來看,三個方向都是絕路,也就意味著EUV光刻機的分辨率暫時無法提升了,那麼接下來,EUV光刻機的發展,會朝哪個方向呢?誰也不清楚。

那麼佳能的NIL納米壓印等,在未來會不會接替EUV光刻機,成為主流呢?

嚴禁無授權轉載,違者將面臨法律追究。

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