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荷蘭ASML也沒料到,日本出手了!外媒:「反轉」來得如此之快!
2024/03/07

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導讀: 荷蘭ASML也沒料到,日本出手了!外媒:「反轉」來得如此之快!

在科技領域,變革的速度常常令人目不暇接。這種快速的變化不僅體現在產品的更新換代上,更體現在行業巨頭的興衰更迭上。曾經風光無限的ASML,如今卻面臨著前所未有的挑戰。這個曾經壟斷全球光刻機市場的荷蘭巨頭,如今卻面臨著技術被替代、市場被壓縮的雙重困境, 荷蘭ASML也沒料到,日本出手了!外媒:「反轉」來得如此之快!

光刻機,作為芯片制造過程中的核心設備,其重要性不言而喻。幾十年來,光刻技術不斷變革和進步,光刻機巨頭也幾度更迭。從最初的美企,到後來的日企,再到現在的荷蘭ASML,光刻機行業的格局不斷變化。而ASML,憑借其在EUV光刻機領域的獨家優勢,一度占據了全球90%左右的市場份額,成為了光刻機行業的佼佼者。

然而,令ASML始料未及的是,光刻機行業的「反轉」來得如此之快。近年來,隨著科技的發展進步,EUV技術已經逐漸走到了盡頭。

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雖然ASML的新一代High-NA EUV光刻機可以用于2nm-1nm制程,但技術瓶頸已經顯現。而就在這時,新的技術開始嶄露頭角。

近日,有科學家提出了一種名為BEUV的新技術,這種技術能夠帶來比現有EUV更短的波長,從而進一步提高光刻精度。據科學家們預測,到2035年左右,如今所使用的EUV光刻機就有可能被BEUV光刻機所替代。這一消息對于ASML來說無疑是一個巨大的打擊。如果BEUV技術真的能夠如預期那樣發展,那麼ASML在光刻機領域的壟斷地位將岌岌可危。

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除了技術上的挑戰外,ASML還面臨著市場被壓縮的困境。近年來,隨著半導體產業的不斷發展,越來越多的企業開始涉足光刻機領域。其中,日本就已經出手了,日本的佳能就是一個典型的例子。佳能推出了不用EUV光刻機的NIL納米壓印技術,基于該技術實現的5nm芯片制造設備已經面向市場銷售,并且2nm制造設備將于2026年推出。這一技術的出現,無疑將對ASML的市場份額構成威脅, 外媒:「反轉」來得如此之快!

面對這些挑戰,ASML不得不開始重新思考自己的戰略。一方面,它需要加大研發投入,積極探索新的技術方向,以確保自己在光刻機領域的領先地位。另一方面,它也需要調整市場策略,加強與合作伙伴的合作,以應對來自其他企業的競爭壓力。

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然而,無論ASML如何努力,都無法回避一個現實:科技的發展進步是沒有盡頭的。如今ASML最重要的或許不是如何保持領先地位,而是如何適應這個快速變化的時代,不斷進行自我革新和升級。

對于ASML來說,現在可能是一個最好的時代,也是一個最壞的時代。它擁有全球最先進的光刻機技術和最大的市場份額,但同時也面臨著前所未有的挑戰和競爭壓力。在這個關鍵時刻,ASML需要保持清醒的頭腦和堅定的信念,積極應對各種挑戰和機遇,以確保自己能夠在這個充滿變革的時代里立足并不斷發展壯大。

總之,科技的發展進步是不斷推動行業變革的重要力量。在這個快速變化的時代里,任何一個企業都不能掉以輕心。而這也給國產科技企業的發展敲響了警鐘,我們只有不斷創新、不斷進步,才能在激烈的市場競爭中立于不敗之地;不知道對此你是怎麼看的呢?

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